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北京創世威納科技有限公司

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離子束刻蝕

離子束刻蝕是利用具有一定能量的離子轟擊材料表面,使材料原子發生濺射,從而達到刻蝕目的.把Ar、Kr或Xe之類惰性氣體充入離子源放電室并使其電離形成等離子體,然后由柵極將離子呈束狀引出并加速,大樣片離子束刻蝕機,具有一定能量的離子束進入工作室,射向固體表面撞擊固體表面原子,使材料原子發生濺射,達到刻蝕目的,屬純物理過程。




反應離子刻蝕的原理

在反應離子刻蝕中,氣體放電產生的等離子體中有大量化學活性的氣體離子,這些離子與材料表面相互作用導致表面原子產生化學反應,生成可揮發產物。這些揮發產物隨真空抽氣系統被排走。隨著材料表層的“反應-剝離-排放”的周期循環,材料被逐層刻蝕到特定深度。除了表面化學反應外,帶能量的離子轟擊材料表面也會使表面原子濺射,大樣片離子束刻蝕機哪家好,產生一定的刻蝕作用。所以,反應離子刻蝕包括物理和化學刻蝕兩者的結合。

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離子束刻蝕機

離子束是指以近似一致的速度沿幾乎同一方向運動的一群離子。離子源用以獲得離子束的裝置。在各類離子源中,用得較多的是等離子體離子源,即用電場將離子從一團等離子體中引出來。這類離子源的主要參數由等離子體的密度、溫度和引出系統的質量決定。屬于這類離子源的有:潘寧放電型離子源射頻離子源、微波離子源、雙等離子體源、富立曼離子源等。另一類使用較多的離子源是電子碰撞型離子源,主要用于各種質譜儀器中。




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